上海美维电子申请新的埋入式铜块制作方法专利,能一定程度提高成品合格率
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2025-06-17 09:15:04
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金融界2025年6月17日消息,国家知识产权局信息显示,上海美维电子有限公司申请一项名为“一种新的埋入式铜块的制作方法”的专利,公开号CN120166636A,申请日期为2025年03月。

专利摘要显示,本发明涉及PCB技术领域,公开了一种新的埋入式铜块的制作方法,包括S1、备料;S2、层压与铣槽处理;S3、预埋铜块;S4、第一次真空树脂塞孔;S5、第二次真空树脂塞孔;S6、磨板处理。本发明不受叠构影响,使用铜箔压合的叠构也能制作埋铜块;真空塞孔制作埋铜块的工艺仅需一次铣外形,加上真空塞孔的成本也会略低于层压制作埋铜块,且层压制作埋铜块的价格与使用芯板数量与PP数量相关,随着层次增加,真空塞孔制作埋铜块相对而言价格优势会更大;在铣槽设计中增加了凸槽设计,能够解决部分埋铜块对于对准度的要求;真空树脂塞孔制作埋铜块时由于先使用胶带固定铜块,避免了铜块偏离问题,能够一定程度提高成品合格率。

天眼查资料显示,上海美维电子有限公司,成立于1995年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本53081.7303万人民币。通过天眼查大数据分析,上海美维电子有限公司参与招投标项目24次,专利信息135条,此外企业还拥有行政许可80个。

来源:金融界

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